概述

隨著電子產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域日益擴大，半導體對我國發(fā)展具有重要的意義。半導體涉及行業(yè)廣泛，根據(jù)生產(chǎn)原料及工序的不同，產(chǎn)生廢水的廢水性質(zhì)也不同，但都存在著排水量大，污染能力強的特點，嚴重危害生態(tài)環(huán)境健康的同時也制約其發(fā)展。

污水來源及水質(zhì)特點

根據(jù)半導體生產(chǎn)廢水污染物的特點，可將半導體廢水分為三類，主要來源于生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的含氟廢水、有機廢水及金屬離子廢水，詳細介紹如下：

1、含氟廢水，廢水主要來自于半導體生產(chǎn)工序的刻蝕段，由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑，產(chǎn)生的污染如氟化物、氨氮等濃度較高，廢水一般呈強酸性；

2、有機廢水，其污染物質(zhì)主要是一些常規(guī)污染物，生產(chǎn)濃度跟生產(chǎn)工藝及操作管理水平關(guān)系較大，COD一般在200～3000mg/L；

金屬離子廢水，半導體廢水中的金屬離子種類眾多，主要如銅、鎳、錫、鉛、銀等，濃度一般在幾十mg/L。

處理難點分析

高濃度的含氟廢水處理難度大，一般的化學沉淀法難以徹底去除水中的氟離子，在排放要求高的時候，應(yīng)對其采用多種組合工藝處理。

半導體有機廢水濃度不會太高，但不同企業(yè)的水質(zhì)變化大，其進水水質(zhì)需根據(jù)化驗監(jiān)測結(jié)果來確定。

對于不同種類的高濃度金屬離子廢水，應(yīng)該分開收集進行處理，若廢水中含金屬離子種類較多，工藝流程會較長。

污水處理工藝

含氟廢水一般采用化學沉淀法，投加鈣鹽與水中的氟離子形成CaF2，再加以混凝劑輔助即可去除水中的氟離子。出水要求高時，可與生化法、吸附法等聯(lián)合運用。

有機廢水一般采用經(jīng)濟高效的生化法，如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝，對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規(guī)污染物去除效果非?？捎^。

金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類進行選擇，常用的有化學沉淀法、吸附法、離子交換法等。

半導體行業(yè)生產(chǎn)需水甚多，用水要求不高，一般建議將廢水做回用處理，以節(jié)約生產(chǎn)成本。具體可見我司零排放及中水回用單元。